Pesquisadores da Universidade Federal de São Carlos (UFSCar) desenvolveram um método mais limpo e mais rápido para obter o óxido de grafeno reduzido (rGO), um derivado do grafeno com propriedades que permitem diversas aplicações, como o uso em supercapacitores, sensores e filtros.
A técnica envolve a obtenção inicial de óxido de grafeno por meio do método de Hummers, que promove a oxidação da grafita por tratamentos ácidos.
Em seguida, o material foi reduzido utilizando irradiações por laser de neodímio ítrio-alumínio-granada (Nd:YAG), dispositivo que emite pulsos de alta energia em curtíssimos espaços de tempo.
O calor do laser promove a redução do óxido de grafeno, gerando o óxido de grafeno reduzido, que, por sua vez, apresenta propriedades muito semelhantes ao grafeno puro.
Com esse processo torna-se possível realizar a associação do óxido de grafeno reduzido com metais óxidos semicondutores, o que pode ser usada em sensores de gases tóxicos, por exemplo.
"O método de redução utilizado apresenta certas vantagens quando comparado aos métodos químicos, térmicos e termoquímicos. Não gera resíduos, tem melhor eficiência e rapidez no processo de redução," explicou o pesquisador Bruno Sanches de Lima.
Os próximos passos do trabalho, segundo os pesquisadores, são a obtenção de materiais híbridos formados pelo óxido de grafeno reduzido e óxidos semicondutores para, em seguida, testar a eficácia desses compósitos como sensores de gases tóxicos.
Bibliografia:
Artigo: Wavelength effect of ns-pulsed radiation on the reduction of graphene oxide
Autores: Bruno Sanches de Lima, M. I. B. Bernardi, Valmor R. Mastelaro
Revista: Applied Surface Science
Vol.: 506, 144808
DOI: 10.1016/j.apsusc.2019.144808
Com informações da Agência Fapesp