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Brasileiros são finalistas de concurso internacional de fotografia científica

Publicado em 01 novembro 2017
Três pesquisadores brasileiros são finalistas do concurso de imagens de nanomateriais, o NanoArtography Competition 2017, do A.J. Drexel Nanomaterials Institute, da Universidade de Drexel, nos Estados Unidos. Ricardo Luiz Tranquilin, Enio Longo e Rorivaldo de Camargo fazem parte do Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais (CDMF), que é apoiado pela FAPESP (Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo). O concurso selecionou 98 fotos de participantes de diversos [...]